技術
分子汚染問題と対策
分子汚染問題と対策
半導体やフラットパネルディスプレイなどの先端産業におけるクリーンルームでは、製造環境中に存在する分子状物質による製品への悪影響が問題となります。当社では分子汚染を防止するために「クリーンルーム五原則」を提案し、五原則のキーワードに対する各々の対策技術を保有しています。
クリーンルームの雰囲気汚染の現状
雰囲気汚染対策技術
1) クリーンルーム構成材の選別
- 構成材料の脱ガス評価
- 建設後の空気質モニタリング
2) ガス除去技術
1.吸着法
- ケミカルフィルタの性能評価
- 素材の評価
- フィルタの性能評価
- ウェハの表面の汚染防止効果
- 実工場でのフィールド試験
2.湿式法
- エアワッシャによる外気循環空気処理
- 水溶性不純物の除去性能の実態調査
3.乾式法
- 次世代の空気浄化技術の研究
- UV利用技術
- 光化学反応によるガスの微粒子化
- 光触媒によるガス分解
- 非平衝プラズマによるガス分解
- UV利用技術
3) 分離空調方式と局所クリーン化方式
- 分離空調方式の採用
- 局所クリーン化システムの開発
4) 製造プロセス、装置
- プロセス由来ガスの空気質への影響調査
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