研究論文 No.47
半導体製造用クリーンルームにおける空気浄化方法の変遷と今後の動向
発表先
月刊「クリーンテクノロジー」12月号（日本工業出版)
発表者
本田重夫
内容
最近のクリーンルームの利用分野は、微細加工が必要な半導体やFPD製造工場、それらの製造装置や材料メーカーの工場を始めとして、IT産業全体にまで裾野が拡大してきた。また、医薬品GMPやHACCPへの対応、感染症対策のための微生物制御などのバイオロジカルクリーン技術への要求も高まっている。これらのクリーン化技術は、HEPAフィルタに代表される空気浄化技術の開発と共に発展してきた。一方、クリーンルームの形態は、生産品の搬送形式の変化やAMC等の新たな制御物質の発生、イニシャル・ランニングコストに対する要求、省エネルギー・地球環境対策などのニーズの変化に伴って、多種多様に変遷してきた。本稿では、半導体製造用クリーンルームにおける、フィルタや気流制御による空気浄化方法の変遷と今後の動向について述べた。