朝日工業社LAB

技術研究所

技術研究所

技術研究所

最先端の半導体製造の要求に応えるクリーンルームの研究開発から、オフィス・アメニティの創造まで、多様化・細分化する環境への要求に対し、その技術拠点となっているのがこの技術研究所です。最先端のテクノロジーを用いて、私たちをとりまく空間への多様なアプローチを行っています。
そして、超清浄空間を実現するクリーンテクノロジーの研究、人や地球にやさしい居住環境や清浄な空間をもたらす空気浄化技術の研究を通じて、様々な角度から要素技術を縦横に組み合せ、より高度な環境の提供をめざして、意欲的に新システムの開発や既存技術の改良に取り組んでいます。

技術研究所
技術研究所外観

LABORATORY技術研究所

住所 〒275-0001 千葉県習志野市東習志野6-17-16〉 MAP
TEL 047-477-5825
FAX 047-477-2108
設立 1983年4月1日
敷地面積 1,506.63㎡
研究棟本館 1,225.21㎡(延床面積)
別館 ハイテクセンター616.30㎡(延床面積)

技術開発を支える研究設備

空調、クリーンルーム自動制御など、多彩なエンジニアリングを支える実験設備や計測機器を備えています。

お問い合わせは、下記のお問い合わせフォームよりご連絡ください。